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진공 플라즈마 챔버(Plasma Cleaner)
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LWS-VPC-1000K
Vacuum Plasma System
제품 용도
Ar, O2의 플라즈마로 EMC용 Substrate 및 Lead Frame의 표면을 식각/세정 할수 있는 장치
제품 특징
제품 사양
LWS-VPC-1000K
- RF Generator : 1000W
Matcher : Digital Matcher / AVC(Auto Matching)
Feed through
Accessory
Accessory
- MFC : 5CH(Ar, O2, N2, H2, Air)
Piping & Fitting
- Auto Pressurer Control
- Controller : PLC & Touch / Wiring & I/O check / Electric Part
- Pump Type : Dry
- Sensor &Gauge : Bartron / ATM
- Material : SUS-304 / A6061
- Door : Process Viw Port
